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CMARC技術

CMARC

雙極脈沖磁控電弧涂層技術

HCVAC涂層系統采用匯成真空CMARC技術,獨有的磁場控制技術使電弧在靶材整個表面做快速的移動,涂層表面光滑致密,靶材表面被均勻刻蝕,優化了涂層結合力。

CMARC涂層技術

HCVAC系列涂層系統特點:
?    低溫至300℃,也具有出色的涂層附著力
?    新技術帶來了更快的批次周轉效率,優化了涂層生產效率
?    高精密度,在有效鍍層范圍內涂層厚度精確度可以控制在15%以內
?    所有HC系列涂層設備,可以方便的升級到PACVD涂層設備,平面多弧設備,平面磁控設備

CMARC涂層技術