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真空鍍膜機真空管鍍膜的原理介紹
        鍍膜行業的鍍膜原理和流程是非常復雜的,整個鍍膜流程也是非常周密。因為任何一個環節出現問題,都會造成后期膜層的質量問題因此,真空鍍膜機鍍膜原理和流程,是眾多商家非常關注的問題。那么真空鍍膜機真空管鍍膜的原理是怎樣的呢? 下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下,希望在鍍膜的道路上,能幫助到大家一點點。
 
真空鍍膜機
 
        真空鍍膜機真空管鍍膜的原理是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,最終沉積在基片上?,F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
 
        目前真空管膜層普遍采用鋁氮復合膜,整個膜層分內、中、外三層,各有其作用,內層為反射層,主要作用是阻止管中熱水的熱量向外輻射;中層為吸收層,主要作用是吸收光能,并轉化成熱能;外層為減反層,主要作用是減少陽光的反射,增加陽光的吸收率。
 
        這是真空鍍膜真空管的鍍膜原理,對于對真空行業了解尚淺的工作人員來說,了解真空鍍膜機鍍膜原理可能會顯得生疏,也有點難以消化,畢竟都是新鮮詞語和詞匯,但是真正投入到這個行業后,其實也還好,所謂熟能生巧,一個道理。