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PACVD 技術
PACVD是等離子體輔助化學氣相沉積的縮寫

什么是PACVD技術?
       PACVD是等離子體輔助化學氣相沉積的縮寫,有時也寫作PECVD,E代表增強的意思。在PVD過程中,涂層材料是從固體形式蒸發得到;而在PACVD過程中,涂層是從氣體形式得到,氣體,如HMDSO(六甲基二甲硅醚)在等離子體作用下,大約200 ºC時發生裂解,非反應氣體,如氬氣,可以使離子沉積到工件表面并形成很薄的涂層,類金剛石(DLC)涂層就是PACVD技術制備的很好的例子,通常應用于摩擦學和汽車行業。

       等離子體輔助化學氣相沉積 (PACVD) 用于沉積 DLC 涂層, 通過等離子體激發和電離,激活工藝中的化學反應,借助此工藝,我們可以在約 200 °C 的低溫下使用脈沖輝光或高頻放電進行沉積,用 PACVD 生成的類金剛石涂層具有摩擦系數低和可擴展的表面硬度特性。

PACVD技術工藝圖

工藝基礎  (PACVD)

涂層厚度

1 – 8µm

硬度

1,000 – 3,500HV

耐高溫

350 – 400 °C

沉積溫度

180 – 350 °C

優點:
• 高耐磨性
• 低摩擦系數
• 耐腐蝕
• 即使兩個涂層表面相對摩擦,每個涂層都能夠提供最佳的性能和可靠性

典型應用:
• 摩擦學應用
• 塑料加工
• 光學 行業
• 半導體行業
• 汽車零部件
• 工程
• 賽車部件